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论文作者:王铀等 期刊:Small 发布时间:2008-9-16 14:56:45
开发出微小线宽图形写入擦除技术
 
哈尔滨工业大学材料学院材料物理与明升手机系王铀教授课题组完成的,以纳米尺度哈工大英文缩写“HIT”为标志性图案的论文将于近日在国际著名纳米科技期刊Small(SCI期刊影响因子IF: 6.4)上发表。
 
该课题组在国家863专项课题资助下,依托“哈工大微纳米技术研究中心”教育部重点实验室平台,在高密度信息存储技术领域的研究获得突破。课题组成功地开发出小于20 nm线宽的图形写入与擦除技术,并已申报国家发明专利。该项技术可实现20 nm线宽凹、凸图案高速写入,并根据需要可以对写入的图案进行高速擦除。论文的研究工作得到两位国际评阅专家的高度评价。
 
课题组的另一项工作也已于近期发表在高分子领域国际著名期刊《大分子》(Macromolecules) 上。2008, 41, 5799(SCI期刊影响因子IF: 4.4)。(来源:哈尔滨工业大学 宣萱)
 
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